Pó de silicida

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  • Molybdenum Silicide, MoSi2

    Siliceto de molibdênio, MoSi2

    Dissilicida de molibdênio (Molibdêniodisilicida, MoSi2) é uma espécie de compostos de molibdênio de silício, porque os dois raios atômicos eram semelhantes, eletronegatividade próxima, por isso é semelhante à natureza do metal e da cerâmica.

  • Copper Silicide, Cu5Si

    Siliceto de cobre, Cu5Si

    O siliceto cúprico (cu5si), também conhecido como siliceto cúprico, é um composto binário de silício de cobre, que é um composto metálico intermetálico, o que significa que suas propriedades são entre compostos iônicos e ligas. Possui excelente condutividade, condutividade térmica, ductilidade, resistência à corrosão e resistência ao desgaste. Filmes de silicida de cobre podem ser usados ​​para passivar chips à base de cobre, inibir sua difusão e migração de elétrons e atuar como barreiras de difusão.

  • Chromium Silicide, CrSi2

    Siliceto de cromo, CrSi2

    A aplicação de dissilicida de cromo na preparação de materiais cerâmicos por pirólise de policarbosilano como precursor O pó de dissilicida de cromo pode promover a reação de craqueamento de PCs, aumentar o rendimento cerâmico do precursor, reduzir a retração linear do precursor no processo de pirólise e melhorar o propriedades dos materiais cerâmicos.

  • Zirconium silicide, ZrSi2

    Siliceto de zircônio, ZrSi2

    O dissilicato de zircônio é usado principalmente em cerâmica de metal, revestimentos resistentes à oxidação em alta temperatura, materiais estruturais de alta temperatura, aeroespacial e outros campos

  • Tantalum Silicide powder, TaSi2

    Pó de siliceto de tântalo, TaSi2

    siliceto de tântalo tem alto ponto de fusão, baixa resistividade, resistência à corrosão, resistência à oxidação em alta temperatura e silício, o material da matriz de carbono tem excelentes propriedades, como boa compatibilidade, como o material de grade, linhas de conexão de circuito integrado, revestimento de resistência à oxidação em alta temperatura, etc. elemento de aquecimento elétrico, o campo de peças de estrutura de alta temperatura e dispositivos eletrônicos, e mais pesquisas e aplicações

  • Titanium Silicide powder, Ti5Si3

    Pó de siliceto de titânio, Ti5Si3

    Ti5Si3 tem alto ponto de fusão (2130 ℃), baixa densidade (4,65g / cm3) e excelentes propriedades de alta temperatura, como dureza em alta temperatura, boa estabilidade em alta temperatura e resistência à oxidação, portanto, deve ser usado para materiais estruturais de alta temperatura acima 1300 ℃.

  • Cobalt Silicide, CoSi2

    Siliceto de cobalto, CoSi2

    A fórmula química CoSi2. O peso molecular é 115,11. Cristal ortorrômbico castanho escuro. O ponto de fusão é 1277 ℃ e a densidade relativa é 5,3. Pode ser oxidado a 1200 ℃ e corroer sua superfície;

  • Nickel Silicide, Ni2Si

    Siliceto de níquel, Ni2Si

    O silício (NiSi) é uma liga austenítica (NiSi) (1); ele é usado como o material do pólo negativo do termopar tipo n. Sua estabilidade termoelétrica é melhor do que a do par elétrico tipo E, J e K. A liga de silício de níquel não deve ser colocada em gás contendo enxofre. Recentemente, é listado como um tipo de termopar no padrão internacional.

  • Manganese Silicide, MnSi

    Siliceto de manganês, MnSi

    Solúvel em ácido fluorídrico, álcali, insolúvel em água, ácido nítrico, ácido sulfúrico. O siliceto de Manganês é um tipo de siliceto de metal de transição, que é um tipo de composto intermetálico refratário.

  • vanadium silicide, VSi2

    siliceto de vanádio, VSi2

    Cristal prismático metálico. A densidade relativa era 4,42. Insolúvel em água fria e água quente, solúvel em ácido fluorídrico, insolúvel em etanol, éter e ácido. Método: de acordo com a combinação A proporção de pentóxido de vanádio para silício reage a 1200 ℃, ou será em proporção ao metal O vanádio pode ser obtido pela reação de vanádio com silício em alta temperatura.

  • Magnesium Silicide, Mg2Si

    Siliceto de magnésio, Mg2Si

    Mg2Si é o único composto estável do sistema binário Mg Si. Possui as características de alto ponto de fusão, alta dureza e alto módulo de elasticidade. É um material semicondutor do tipo n com gap estreito. Tem perspectivas de aplicação importantes em dispositivos optoeletrônicos, dispositivos eletrônicos, dispositivos de energia, laser, fabricação de semicondutores, comunicação de controle de temperatura constante e outros campos.

  • Titanium Disilicide, TiSi2

    Disilicida de titânio, TiSi2

    Desempenho do siliceto de titânio: excelente resistência à oxidação em alta temperatura, usado como materiais resistentes ao calor, corpo de aquecimento de alta temperatura, etc.

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